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有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜しま…
【その他特長】 ■熱ALDとカソードCVDによる二層成膜により、優れた特性を持つゲート絶縁膜を形成 ■容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化 ■ロードロック室を有し、反応室を大気開放することがないため、...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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