缶 | イプロス医薬食品技術

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

対象物がドライフィルムとポジレジストのレジスト剥離促進剤です。苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200kgドラムをご用意しております。【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に　添加することにより、レジストの剥離が容易 ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。アルミニウム基盤にも使用可能。対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液または水にて希釈・温度：常温 ■対象物・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液・温度：常温 ■対象物・ガラス・ドライフィルム・その他 ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

・濃度：原液又は純水にて希釈・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／ドラム／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

ケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能です。【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能 ■容量・荷姿は20kg缶～ローリーをご用意 ■フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤　として効果的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

スト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に　添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易 ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液・温度：常温～50℃ ■対象物・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

■処理条件・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物・鉄・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・化学工業・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所