排水処理薬剤　日本アルシー薬品カタログ

PRコスト削減、環境負荷低減、バルキング対策...etc.様々なニーズにお…

日本アルシーで取り扱っている薬剤を大きく分けて下記の4種類ご紹介しています。 排水処理薬剤変更を検討されている方は、ぜひこちらのカタログからご検討ください。 『アルシーフロックN100シリーズ』 無機成分によらない1次凝集剤であり、発生する凝集汚泥を削減します。 『高分子凝集剤アルシーフロックシリーズ』 高分子成分による2次凝集剤です。一般的なものよりも凝集性が高く、安定した処理を行うことがで...

メーカー・取り扱い企業： 日本アルシー株式会社 本社

『リーフレットラベル（多層シール）』

PR商品の限られたスペースに多くの情報が入れられる。リーフレット状やハガキ…

『リーフレットラベル（多層シール）』は 商品などに付けて、多くの情報を消費者へ届けられるラベルです。 医薬品・医薬部外品・化粧品・農薬などで必要になる、 能書、説明書、多言語表記などを付けることができます。 また、1枚ずつ異なる可変情報を印字できるため、 製造ロット番号、真贋判定用・トレーサビリティ用の2次元コード なども付けられます。 【豊富なラインアップ】 ■スタン...

メーカー・取り扱い企業： シーレックス株式会社

【プロセス分析計 技術資料】めっき浴中のニッケル＆次亜リン酸測定

無電解ニッケルめっき浴中のニッケル濃度と次亜リン酸含有量をオンライン分…

ニッケル‐リン合金の層を工作物の表面にめっきするための自己触媒化学技術です。この方法は、めっきのために金属イオンと反応する還元剤（次亜リン酸ナトリウム）の含有量に依存します。 しかし、めっき浴の薬品の寿命は限られているので、薬品の消費を自動的に監視することが重要なプロセス制御要件となります。めっき浴を長時間使用すると、薬品中の電解質は反応生成物で過負荷になり、工作物の表面および層の特性に悪影響...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社

【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

れる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げるためにはこの工程を最...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社