• 技術資料『JIS規格「分銅」と製造工程の紹介』 製品画像

    技術資料『JIS規格「分銅」と製造工程の紹介』

    PRJIS分銅の製造から市場供給までの流れをご紹介。JIS規格の概要も解説

    当社は、質量計測を主軸とし、天びん・分銅の製造や校正サービスを手掛けています。 100年以上にわたって蓄積したノウハウを元に、高度な技術が求められる 機械式はかりの組立や、1μgレベルの高精度な質量調整・校正が可能です。 本資料では、分銅の信頼性を担保する「JISマーク付き分銅」について紹介。 精度等級や特性評価基準などのほか、製造・検査工程などを紹介しています。 【掲載内容(一...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社村上衡器製作所

  • 【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集(No.2227) 製品画像

    【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集(No.2227)

    PR【試読できます】★ 各種造粒のメカニズム、プロセス、操作パラメータ設定…

    ★ シミュレーション、AIを駆使した造粒プロセス最適化、連続生産システムの構築! --------------------- ■ 本書のポイント ● 造粒のスケールアップに必要な操作パラメータの適切な設定 ● 造粒装置・操作におけるトラブルと対策 ● 造粒物の粒度分布・粒子径・流動性・付着性の評価 ● 造粒のリアルタイムモニタリング、固形製剤連続生産システムの構築 ......

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 製品画像

    粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 2周波CCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析 製品画像

    事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

    Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

    長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ(CC…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

    Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D 製品画像

    【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

    「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

    代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン

    カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

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