• MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • 【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集(No.2227) 製品画像

    【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集(No.2227)

    PR【試読できます】★ 各種造粒のメカニズム、プロセス、操作パラメータ設定…

    ★ シミュレーション、AIを駆使した造粒プロセス最適化、連続生産システムの構築! --------------------- ■ 本書のポイント ● 造粒のスケールアップに必要な操作パラメータの適切な設定 ● 造粒装置・操作におけるトラブルと対策 ● 造粒物の粒度分布・粒子径・流動性・付着性の評価 ● 造粒のリアルタイムモニタリング、固形製剤連続生産システムの構築 ......

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応! 製品画像

    『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応!

    幅広い光学薄膜ラインアップと高精度研磨・薄膜加工技術でご要望にお応え。…

    gies(米国カリフォルニア州)、 KERDRY(フランス)、 FICHOU(フランス)の3社を買収し、長年グループ内で培ってきた 専門知識(PVD/PECVD薄膜、フェムト秒レーザー、表面特性評価ノウハウ)が この新たな分野でも活用できるに違いありません! 【特長】 ■紫外域から赤外域まで対応 ■各種光学素材の精密研磨(平面度λ/20) ■お客様のニーズに合わせて好適な薄膜設計...

    メーカー・取り扱い企業: HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

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