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PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。
ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...
メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社
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GaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。
に致しました。 【特長】 ・本装置はNH3を触媒分解により窒素と水素に分解、完全無害化します。 ・MOを含むGaN製造プロセス排ガス中の有毒ガスを効率的かつ安全に除害します。 ・酸化法によるNH3除害などで問題となるNOxの発生は全くありません。 ・火炎式(燃焼式)でない為、プロパン供給設備や排水設備は必要ありません。 (但し、A20分解筒は水冷式を採用しております。...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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