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PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。
ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...
メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社
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強い酸化作用を利用!照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…
水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における酸素濃度の影響や、光子エネルギーに よる結合切断の必要性を調べるために、PHPS溶液を用いたスピンコーティング膜に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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紫外・可視光透過スペクトルを分光光度計により測定!ゾル-ゲル薄膜の改質…
量子(フォトン)プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、 薄膜の改質にも応用できると考えられます。 当資料では、ゾル-ゲル法により調整した酸化ニッケル薄膜に、実用的な 光源として開発されてきたエキシマランプを用いてVUV光を照射したときの 状態変化について紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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