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半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電…
酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。 メッキ浴 鍍金浴...
メーカー・取り扱い企業: メトロームジャパン株式会社 本社
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