３Ｄ希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』製品カタログウェーブフロント

基本情報３Ｄ希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

DSMC-Neutralsは低圧条件のガス流れの解析が可能な希薄気体ソフトウェアです。並列を用いて短時間で計算結果を出せます。

DSMC-Neutrals はモンテカルロ直接法 ( DSMC- Direct Simulation Monte Carlo ) を用いた3次元希薄気体解析ソフトウェアです。
非構造メッシュを用いることにより、複雑な形状のシミュレーションが可能です。
化学反応の計算も可能であり、
・真空チャンバー内の希薄なガス流れ
・化学蒸着 ( CVD - Chemical Vapor Deposition )
・有機EL ( OLED - Organic Light Emitting Diode )
・分子線エピタキシー ( MBE - Molecular Beam Epitaxy )
などの
半導体製造における薄膜生成のシミュレーションにも適しています。
アレニウス形式の反応データから化学反応を計算することが出来ます。
解離・再結合・分子（原子）交換反応の計算も可能です。
GUI 上で，複数の反応式を設定することも可能です。

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
（詳細を見る）

ダスト挙動の解析ソフト『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析
はじめ様々なシミュレーションに対応

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
（詳細を見る）

真空装置向け希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
（詳細を見る）

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。
希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、
有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。
お客様のニーズに合わせた対応も可能です。

【ラインナップ】
《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》
■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応
■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能

《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》
■低圧のプラズマシミュレーションが可能
■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに

この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、
プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。（詳細を見る）

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。
希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、
有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。

「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」
「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。

また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。

【ラインナップ／特長】
《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》
■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応
■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能

《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》
■低圧のプラズマシミュレーションが可能
■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。（詳細を見る）

粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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シャワーヘッド型CVDの解析ソフト『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析
はじめ様々なシミュレーションに対応

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
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真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

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【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

バルブやポンプの熱流体解析を承ります！

弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

ポンプやバルブの熱流体解析を中心に培った豊富なノウハウをベースに、ソフトウェアを使った単純な解析のご提案ではなく、物理の専門家が受託解析(委託解析)サービスのご相談をお請けしております。（詳細を見る）