省エネ型ドライ真空ポンプ　ER100D/ER100DC

省エネ型ドライ真空ポンプ　ER100D/ER100DCは、同クラスドライ真空ポンプの中でもトップクラスの省エネルギー、小型・軽量化を実現しました。省エネルギー対応で、到達圧力時消費電力400W。小型・軽量を実現し、設置面積は0.11m2（230×450mm）、重量は60kgです。冷却水量・バージガス量の削減で省ユーティリティです。国際規格適合で、用途に応じた製品仕様をご用意しております。ER100Dは、軽負荷・クリーンプロセスの排気に最適、ER100DCは、耐食性能の高い材質を採用、腐食性ガスの排気に対応しています。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 （詳細を見る）

IoT社会を実現するためには様々な電子部品・半導体等が必要であり、これらを製作するために適切な真空環境が不可欠です。その真空環境を作り上げるのに必要な真空ポンプにもIoT対応が出来るよう、当社は考えています。
今回は半導体向け真空ポンプを中心に、当社の豊富なラインナップから製品をご紹介いたします。

【製品】
■コントローラ・電源一体型/磁気軸受形 ターボ分子ポンプ（反応性生成物対応仕様）：TGkine4200MI
■磁気軸受形 ターボ分子ポンプ、コントローラ：TGkine3400M-R、TC0331M［新製品］
■磁気軸受形 複合分子ポンプ（極低振動仕様）：TG420ML
■コンパクトドライ真空ポンプ：DSP251［新製品］、DSP50
■省エネ型ドライ真空ポンプ：ER100D

詳しくはPDFダウンロード、もしくはお問い合わせください。
また、大阪真空はSEMICON Japan 2019 にて、上記ポンプを展示いたしますので是非ご来場ください。
 （詳細を見る）

地方独立行政法人大阪産業技術研究所様に、マグネトロンスパッタリング
装置を納入した事例を紹介させていただきます。

今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロード
ロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および
PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。

スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、
それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印加することも
可能です。

【事例概要】
■納入先：地方独立行政法人大阪産業技術研究所様
■納入製品：MS-3C100L型

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

アメリカ・ニューヨーク州に拠点を持つ、Vergason Technology社の
イオンプレーティング装置「CatArc 3036」に、当社ターボ分子ポンプが
搭載された実績を紹介いたします。

この装置は自動車、装飾、医療、機械および切削工具、スポーツ用品、および
多くの特殊用途を含むコーティング用途に好適な装置で、当社の高流量仕様・
軽量・倒立取り付けが可能である「TGkine3800M-B」が採用されました。

当社では、高真空から低真空までの真空ポンプ、真空コンポーネントなどの
単品販売だけでなく、それらを真空システムに組み込んだ状態で提案可能です。

【事例概要】
■採用先：Vergason Technology社イオンプレーティング装置「CatArc 3036」
■採用製品：ターボ分子ポンプ「TGkine3800M-B」
■製品特長：高流量仕様・軽量・倒立取り付けが可能

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）