株式会社栗田製作所本社・京都事業部
最終更新日：2016-07-15 10:42:21.0
プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
基本情報プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
電気電子機器の製造販売などを行っている株式会社栗田製作所の製品カタログです。
【掲載内容 ※詳しくはカタログをご覧ください】
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されている「プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000」
プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 （詳細を見る）
取扱会社 プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
電気電子機器製造販売 ○DLCコーティングサービス ○DLCコーティング用 プラズマイオン注入成膜装置 ○大気圧プラズマ発生用電源・装置 ○水中プラズマ発生用電源 ○各種パルス電源 ○高電圧パルスモジュレータ ○高電圧・大電流電源応用装置 ○発変電所用機器(遮断器・変成器等)組立配線
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