【滴定装置 技術資料】自動滴定装置による界面活性剤の定量（基礎原理編）2020

界面活性剤（アニオン、カチオン、ノニオン）を専用電極を用いて自動滴定装置で簡単に測定することができます。
複雑で時間のかかる前処理は必要ありません。
通常の滴定手法と同じ工程で短時間に各種界面活性剤の濃度が正確に測定できます。
電極を変更すれば一般的な電位差滴定（中和滴定や沈殿滴定）も、もちろん行えます。
製造現場の洗浄液や廃水の測定にも便利です。 （詳細を見る）

● メトローム専用の界面活性剤専用電極を用いてアニオン、カチオン、ノニオン濃度が簡単に測定できます。 （詳細を見る）

814サンプルプロセッサは、12～24検体測定用のオートサンプラです。
● ビーカーサイズに合わせて特注ラック製作可能
● コンタミやCO2防止用の自動リッド（カバー）開閉機能（オプション）
● 試料容器にリッド（カバー）を付けれらるので有機溶媒対策にも有効 （詳細を見る）

アニオン、カチオン、ノニオン（非イオン）といった各種界面活性剤を滴定で簡単＆迅速に測定できます。
クロロホルムを使用せずにアニオン性界面活性剤の測定ができるなど、メトロームの電位差自動滴定装置で界面活性剤測定用電極を使用しますと大きなメリットがあります。 （詳細を見る）

滴定って何？からわかりやすく解説した入門冊子です。
滴定とは何をすること？から始まり、中和滴定、沈殿滴定、酸化還元滴定の基礎を簡単にまとめてあります。これから電位差自動滴定装置を初めて使う方にお勧めの資料です。
計14ページ（表紙含む） （詳細を見る）

中和滴定、酸化還元滴定、沈殿滴定、キレート滴定など、一般的な滴定アプリケーションにほとんど対応しているため、品質管理の現場で誰でも簡単に滴定が行える最新の電位差自動滴定装置。
・タッチパネル式のディスプレイで使いやすく簡単
・滴定メソッドはルーチンモードやエキスパートモードに変更保存可能
・スターラ―回転速度はキーボタン一つで変更可能
・お求めやすい価格
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メトローム特許の電動ビュレット・ドジーノ、プロペラスターラ付き測定セル、タッチスクリーン式の操作及び表示画面の全てが一体となっています。
塩分用「916 Salt」、油分用「916 Oil」、食品成分用「916 Food」のシリーズがあり、アプリケーションに合わせたアクセサリーがはじめから入っていますので、購入後すぐに分析できます。
・メトロームの自動滴定装置は全て《3年保証》
・アクセサリは製造終了後《10年間供給保証》
・FDA 21CFR Part11 完全準拠。IQ/OQやバリデーションもご相談ください
・データインテグリティ対策（DI対策）も安心
しているため、安心してお使いいただけます。 （詳細を見る）

OMNIS（オムニス）なら、従来の滴定装置では不可能だったスピードと処理能力を持ちつつ、操作が非常に簡単なシステムです。今までにない革新的な電位差自動滴定装置です。電位差滴定法だけでなく、「光度滴定法のような指示薬を使用した測定」、「フッ酸の滴定といった通常電位差滴定電極が使用できないでも測定できる温度滴定」もOMNISなら自動で行えます。

メトロームの自動滴定装置は全て《3年保証》
アクセサリは製造終了後《10年間供給保証》
しているため、安心してお使いいただけます。 （詳細を見る）

目次
1. 非水滴定を行う場合とは？
2. 非水滴定に用いられる溶媒
3. アプリケーション
3-1. 氷酢酸中の過塩素酸 c(HClO4)＝0.1mol/Lのファクター測定
3-2. c(KOH)=0.1mol/L アルコール溶媒のファクターの測定
3-3. 硝化酸 (HNO3/H2SO4の混酸）の滴定
3-4. 石油化学製品のKOHアルコール溶液による酸価測定4
3-5. ヨーロッパ局法準拠による塩酸エフェドリン濃度の測定
3-6. USP24/25 準拠による塩酸エフェドリン濃度の測定  （詳細を見る）

ピストンを上部から下部へ押し下げて分注するトップダウンドージングを実現したドジーノビュレット搭載の滴定装置です。
従来の滴定装置に比べて半分のスペースで設置が可能となります。 （詳細を見る）

888タイトランドは、分解能1/20,000の806 交換ユニットタイプ電動ビュレットを使用した電位差滴定装置です。
1ｍL、5ｍL、10ｍL、20ｍL、50ｍLの各種ビュレットサイズから選択できます。
電位差滴定だけでなく、イオン選択性電極や光度滴定用電極を使用した測定も行えます。 （詳細を見る）

1台で最大140検体連続分析ができる分析装置となっており、ルーチン分析の自動化と省力化に大きく貢献します。
装置の機能と性能は同等のままで、2台分の設置スペース（815+809）に比べて40％少なくてすみます。

メトロームの装置は全て《3年保証》
アクセサリは製造終了後《10年間供給保証》
しているため、安心してお使いいただけます （詳細を見る）

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。
塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。
しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。
メッキ浴　鍍金浴 （詳細を見る）

金属イオンのキレート滴定、電位差滴定について解説しています。滴定の終点検出には、銅イオン選択性電極を用います。電極はキレート物質と直接応答し
ないので、対応する銅錯体を溶液に添加します。この電極を用いれば、水の硬度を定量することや、電気めっき液や金属塩、鉱物、鉱石中の金属濃度を分析することが可能です （詳細を見る）

一般に、水に含まれるマグネシウムとカルシウムの総量である硬度の測定は目視による手動滴定で行われており（ASTM D1126、ASTM D511、EPA 130.2、EPA 215.5、APHA 130.2、APHA 2000など）、人為的ミスが生じやすく、測定結果の再現性が低く信頼性に欠ける方法です。新しい規格(ASTM D8192）では、自動滴定装置を使用して、目視による終点決定を行うことなく、客観的に水硬度の測定を可能にします。 （詳細を見る）

【取り扱い製品一覧】
■電位差自動滴定装置
■サンプルプロセッサー
■電動ビュレット
■温度滴定装置
■pH･イオン計
■イオンクロマトグラフ
■ポテンショスタット/ガルバノスタット
■電気化学分析装置VA/CVS
■酸化安定性試験装置
■カールフィッシャー水分測定装置
■水分測定用気化装置
■プロセス用分析計

＊各種、様々な分析装置をご用意しております。
　詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。 （詳細を見る）