研究開発用装置 製品カタログ

当シリーズは、研究開発用途から生産用途まで、半導体製造プロセスに
関わるあらゆる分野に適応可能なレジスト塗布・現像・ベーク装置です。

自由度の高い設計になっていて、研究開発及び量産仕様に最適です。
また、塗布ユニット/現像ユニットを搭載し、2”/8”ウェーハの
簡易切換えが可能です。

【特長】
■自由度の高い設計
■塗布ユニット/現像ユニットを搭載
■量産仕様に対応可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当製品は、自動モード離型機能搭載の実験用簡易UVナノインプリント装置
です。プレスしながらUV照射を行ないます。

モールドサイズは、25mm～40mmで、UV照度は0.5mW/cm2になっています。
また、オプションにてHP機能・脱気ユニットを選択頂けます。

当製品以外にも、用途によって選んでいただけるようラインアップも
多数ご用意しております。

【特長】
■自動モード離型機能搭載
■低コストで高解像性
■プレス圧10MPa

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当製品は、プレス圧20MPa/真空チャンバ対応の実験用熱・真空UV
ナノインプリント装置です。プレスしながら加熱、UV照射（真空対応）
を行ないます。真空ポンプ、HP冷却機能搭載している製品です。

プレス圧は最大9,999Nまで対応可能で、0.1N刻みで設定が可能です。
モールドサイズは25mm～40mmで、UV照度は5mW/cm2です。

【特長】
■プレス圧が最大9,999N
■真空ポンプ搭載
■HP冷却機能搭載

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