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最終更新日:2022-10-05 13:49:11.0

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ALDバルブ技術のブレイクスルー「ALD20超高純度バルブ」

基本情報ALDバルブ技術のブレイクスルー「ALD20超高純度バルブ」

ALDバルブ技術のブレイクスルー 大流量。高温。高性能。次世代の半導体製造は、ここから始まる

半導体デバイス製造市場では、効率、一貫性、革新性の向上が求められています。そこでスウェージロックは、原子層蒸着(ALD)用バルブ技術のパイオニアとして、次世代の原子層蒸着プロセス・アプリケーションに必要な精度と性能に対する業界ニーズにお応えするべく、「ALD20 超高純度用バルブ」を開発しました。

【特長】
大流量化/フットプリントの最小化
妥協なき一貫性
卓越した品質/好適なデザイン

原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20

原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20 製品画像

Swagelok 原子層蒸着(ALD)用バルブは、高速開閉と再現性に高い作動機能を有し、非常に優れたサイクル・ライフを実現します。さらなる微細化・高度化へのニーズに対応すべく、大流量・高温用途向けの「ALD 20」を製品ラインアップに追加しました。ALD(原子層蒸着)用途での性能を最適にするため、 アクチュエーターやインジケーター、ソレノイドなど各種オプションも取り揃えています。

【特長】
非常に優れたサイクル・ライフを実現
高速の開閉機能 (オープン/クローズに要する時間は5ミリ秒未満)
高温下でも安定した流量と再現性を実現
膨潤とコンタミネーションへの耐性を高め、シール性能の優れたシート
流路から障害物を一掃し、たまり部分を最小限に抑えるボディ・デザイン

<3つの課題に 超高純度用 ALD20バルブ>
1. 大流量:既存ALDバルブのほぼ3倍にあたる最大1.7Cvの流量係数を実現(当社比)
2. 高温:アクチュエーター部分を含め、バルブ全体をガス・ボックスに入れて使用することが可能
3. 高性能:耐食性に優れているため、腐食性の高い流体も使用可能 (詳細を見る

【半導体業界の課題解決に】ALD(原子層蒸着)用バルブ

【半導体業界の課題解決に】ALD(原子層蒸着)用バルブ 製品画像

ALD(原子層蒸着)プロセスの生産性を高めるには、バルブの熱安定性や流量により高い性能が求められます。

スウェージロックの「原子層蒸着(ALD)用バルブ」は、長寿命を実現し、高速かつ再現性に優れた性能を発揮。より高い熱安定性を求める用途や大流量によるプロセス効率化の向上に寄与する製品も提供。腐食性の高い流体での使用にも優れています。

※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。 (詳細を見る

取扱会社 ALDバルブ技術のブレイクスルー「ALD20超高純度バルブ」

スウェージロック・ジャパン

米国スウェージロック社で製造される業界最高レベルのバルブや継手など、豊富な品揃えの流体システム製品の販売。流体制御に関するトータル・ソリューション・プロバイダーとして配管ユニット製作サービス(Swagelok(R)カスタム・ソリューションズ)の提案。各種技術セミナーなどのサービスの提供。

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