スウェージロック・ジャパン【半導体業界の課題解決に】ALD（原子層蒸着）用バルブ

最終更新日：2024-11-18 14:53:05.0
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大流量・高温・高性能。生産性向上に貢献する超高純度用ALD用バルブ

ALD（原子層蒸着）プロセスの生産性を高めるには、バルブの熱安定性や流量により高い性能が求められます。

スウェージロックの「原子層蒸着（ALD）用バルブ」は、長寿命を実現し、高速かつ再現性に優れた性能を発揮。より高い熱安定性を求める用途や大流量によるプロセス効率化の向上に寄与する製品も提供。腐食性の高い流体での使用にも優れています。

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基本情報【半導体業界の課題解決に】ALD（原子層蒸着）用バルブ

超高純度用Swagelok ALD（原子層蒸着）用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの投与を実現します。

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用途／実績例	半導体業界の原子層蒸着（ALD）プロセスをはじめ、高速での作動や長いサイクル・ライフを必要とする箇所に適しています。