株式会社フォトニックラティス
最終更新日:2020-02-07 11:42:18.0
膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『ME/SEシリーズ』
膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『MEシリーズ』
『MEシリーズ』は、1nm以下の膜厚変化も高速・高密度に面測定が可能な
膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータです。
φ8“ウェハまで全面測定可能。微小領域測定、透明基板対応など、様々な
膜厚分布測定に対応します。
独自開発のPCAセンサーにより、瞬時測定や移動中のサンプルの測定が可能。
より短時間により高精細な膜厚分布情報が得られます。
【特長】
■最大毎分1,000ポイント以上の超高速測定でウェハ全面測定
■50μm角の微小領域の膜厚/屈折率測定が可能
■ガラス基板上の1nm厚の極薄膜測定を実現
■当社独自のフォトニック結晶技術を応用した偏光センサを内蔵
■任意線上の折れ線グラフや、任意領域のヒストグラムなどを瞬時に作製可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『SEシリーズ』
当社では、膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『SEシリーズ』を
取扱っております。
「SE-102」は、コンパクトサイズながら点/線/面分布測定が可能。
数mm程度の狭い領域内の膜厚/屈折率分布の測定に適しています。
「SE-101」は、コンパクトで簡単操作ながら、サンプルのチルト
センサーも装備。他のシステムへの組み込みも容易な、低価格モデルです。
【特長】
<SE-102>
■コンパクトサイズ
■数mm程度の狭い領域内の膜厚/屈折率分布の測定に適している
■点/線/面の3つの測定モードを切り替えての簡単測定
<SE-101>
■コンパクト&拡張性の高い、点測定装置
■他のシステムへの組み込みも容易な、低価格モデル
■高速測定、高拡張性
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
取扱会社 膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『ME/SEシリーズ』
フォトニック結晶光学素子の設計・製造・販売 光学計測機器の設計・製造・販売 (偏光計測装置、偏光ハイスピードカメラ、赤外線ハイスピードカメラなど) 受託計測 (材料試験、サーモグラフィ、各種役務)、 特殊機材レンタルサービス
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