半導体プロセスガス用　インラインフィルター

半導体製造プロセスガス向けに開発。
複雑な流路による優れた除去効果と低圧力損失を実現！
高い除粒子効果及び、ろ過精度でガス置換特性・耐圧性・耐腐食性に優れています。

フィルターエレメントは、2種類。
・SUS316L材金属焼結タイプ
・PTFE膜タイプ
をガス種に応じて選定いただけます。

メーカーカタログには、ガス種に応じた対応一覧を掲載しておりますので
機器選定にご利用ください。

【特　長】
・100% Heリーク試験済（1.0×10^-9 atm・cc /sec）
・100% パーティクル試験済（0.0025μｍ以上が未検出）
・クラス100クリーンルームにて製造・試験・梱包
・広い流量範囲（15～9,000SPLM）から選択可能
・メタルフェイスシール（MFS）継手、ダブルフェルールチューブ継手

現在、他社製品をお使いのお客様は、用途または、他社品番をお知らせいただければ、相当品をご提案いたします！是非お問合せください。

※PDFダウンロード時に表示される『興味を持ったきっかけ』の欄は
株式会社イプロスのAIによって表示されております。​ （詳細を見る）