バリューインパクト有限会社 半導体プロセスガス用 インラインフィルター
- 最終更新日:2023-01-27 17:23:12.0
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半導体製造プロセスガス向けに開発。
複雑な流路による優れた除去効果と低圧力損失を実現!
高い除粒子効果及び、ろ過精度でガス置換特性・耐圧性・耐腐食性に優れています。
フィルターエレメントは、2種類。
・SUS316L材金属焼結タイプ
・PTFE膜タイプ
をガス種に応じて選定いただけます。
メーカーカタログには、ガス種に応じた対応一覧を掲載しておりますので
機器選定にご利用ください。
【特 長】
・100% Heリーク試験済(1.0×10^-9 atm・cc /sec)
・100% パーティクル試験済(0.0025μm以上が未検出)
・クラス100クリーンルームにて製造・試験・梱包
・広い流量範囲(15~9,000SPLM)から選択可能
・メタルフェイスシール(MFS)継手、ダブルフェルールチューブ継手
現在、他社製品をお使いのお客様は、用途または、他社品番をお知らせいただければ、相当品をご提案いたします!是非お問合せください。
※PDFダウンロード時に表示される『興味を持ったきっかけ』の欄は
株式会社イプロスのAIによって表示されております。
基本情報半導体プロセスガス用 インラインフィルター
【仕 様】
粒子捕捉率 :99.9999999%
ろ過精度 :0.0025μm
ハウジング :SUS316L(シングルメルト材 / ダブルメルト材)
エレメント :金属焼結タイプ、PTFE膜タイプ
内面仕上げ :≦ Ra 5μ inch(0.127μm)
多孔率 :60~70%(単位面積当たりの隙間の割合)
接続形状 :メタルフェイスシール(MFS継手:VCR相当)、ダブルフェルール継手
流量範囲 :15~9,000SLPM
最高使用圧力 :~21MPa(20℃時):エレメント金属焼結タイプ
:~0.98MPa(20℃時):エレメントPTFE膜タイプ
●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
価格情報 |
【エレメント:SUS316L金属焼結】 定格流量:60SLPM、1/4"VCRタイプ SS-A60-4VM 16,310円 定格流量:600SLPM、1/2"VCRタイプ SS-H600-8VM 42,660円 【エレメント:PTFE膜】 定格流量:50SLPM、1/4"VCRタイプ ST-A50-4VM 22,580円 定格流量:1500SLPM、3/4"VCRタイプ ST-C1500-12VM 174,540円 上記以外のサイズ、接続などの各種ラインナップもございます。 |
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納期 |
お問い合わせください
※数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。 |
型番・ブランド名 | メーカー名:TK-FUJIKIN社 |
用途/実績例 | 【用途】半導体製造用プロセスガス向け 【実績】半導体製造装置、ガス供給設備、ガスBOXなどのガス制御システム |
カタログ半導体プロセスガス用 インラインフィルター
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