【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の
セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で
焼成する方法が報告されています。

本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、
酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。

そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における酸素濃度の影響や、光子エネルギーに
よる結合切断の必要性を調べるために、PHPS溶液を用いたスピンコーティング膜に、
照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質について検討しました。

【掲載内容】
■緒言
■実験
■結果と考察
■結論

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