3M(TM) 金属イオン除去フィルター_CUN-E21-ECUN-E21-E

薬液中の金属イオンを50ppt以下レベルまで低減可能（※）。
リソグラフィプロセスで使用されるPGMEAなどの溶剤や、
BARCなどの高純度ポリマー溶液も、ワンパスで効果的な除去が行えます。

【特長】
■薬液とろ材の接触時間が長いため、イオン交換容量が大きい
■金属溶出が少なく、前処理にかかる時間の短縮や作業の簡易化を実現
■多くの薬液に対応できるよう、2タイプのろ材をラインアップ
■スクリーニング用、スケールアップ評価用、量産用など各種サイズをご用意
■イオン交換樹脂などによる金属イオン除去の代替に
■弊社の他のフィルターと組み合わせて多段ろ過することで、より金属除去効果をもたらす可能性があります

※弊社、社内試験での結果によります。
※オンラインでの製品説明、ハウジングの貸し出し、薬液の分析サポートも行っています。
　ご希望の方は「お問い合わせ」よりお申し込みください。内容によりお受け出来ない場合が御座います。ご了承ください。
※スリーエム ジャパン（株）は下記のリンク内の個人情報取り扱い方針および同社のプライバシーポリシーに基づき個人情報を取り扱います。 （詳細を見る）

『3M MIPシリーズ』は、半導体製造プロセスなどで使用する薬液中の
金属イオンを50ppt以下レベルまで低減可能な金属イオン除去フィルターです。

イオン交換容量が大きいためワンパスで効果的な除去が行えるほか、
金属溶出も少なく、前処理にかかる時間の短縮や作業の簡易化が可能。

スクリーニング評価用のφ47mmディスクから20インチカートリッジまでの
サイズをラインアップし、少量の薬液テストから簡単にスケールアップ可能です。
現行プロセスへの追加も容易で、2種類のタイプ展開で様々な金属種の低減に貢献します。

【ラインアップ】
◎47mmディスクタイプ（スクリーニング用）
◎2インチカートリッジタイプ（スケールアップ評価・少量ろ過用）
◎10インチ/20インチカートリッジタイプ（量産スケール用）
ろ材はイオン交換タイプ（SCP）とキレートタイプ（APP）を展開

※「PDFダウンロード」より製品詳細や試験データを掲載した資料や、
　本製品に関連する研究結果を掲載した英語版資料をご覧いただけます。 （詳細を見る）

昨年10月に実施し、300名以上がご参加いただいた半導体業界における
金属低減に関するWebセミナーをオンデマンドにて公開しています。

昨今の半導体業界では、金属管理の要求レベルが高まっており、
その要求は今まで要求がなかった原材料にいたるまで裾野が広がってきております。

昨年10月に最新の金属低減要求に関する動向と、
実際に金属低減プロセスをどのような段階で対策されているか
具体例を交えてお話するセミナーを開催し、ご好評をいただきました。

この度録画配信(オンデマンド配信)を行いますので、下記【関連リンク】より、是非ご参加くださいませ。

＜セミナー概要＞
【監修】
スリーエムジャパン株式会社　フィルター製品技術部
【内容】
1. 最新の金属低減要求に関する動向について
2. 金属低減の対策方法について
3. 金属イオンの測定についてのTips
4. 3Mの金属イオン除去フィルターについて

※セミナーは日本語となります。ご視聴は無料です。 （詳細を見る）