In -Situ X線回折用 サンプルステージ

XRDynamic 500は、卓越したXRDデータ品質と最大限の効率性を実現します。粉末XRD、非大気下XRD、PDF解析、SAXSなどの最適なソリューションにより、幅広いアプリケーションをカバーする多目的プラットフォームを活用できます。 直感的な操作性と、完全に自動化された光学系のアライメントルーティンにより、初心者から熟練者まで、誰もがエラーを最小限に抑えながら、最高品質のXRDデータを迅速に収集することができます。 （詳細を見る）

アントンパール社の精密で柔軟なXRDソリューションは、最高のデータ品質と他に類を見ない測定効率を兼ね備えています。アントンパール社の信頼性の高いシステムは、直感的に操作できる設計で、高度に自動化されているため、サンプルスループットの向上と装置の稼働率の最大化を実現しています。XRDynamic 500粉末回折装置は、高品質の光学系、次世代ゴニオメーター、最先端の検出器を搭載しています。また、大気及び非大気用サンプルステージの豊富な製品ラインナップにより、さまざまなアプリケーションをカバーしているため、お客様のニーズに最適なXRDシステムを必ず見つけることができます。 （詳細を見る）

非接触加熱方式のオーブンヒーターにより試料を均一に温度制御できます。

サンプル回転オプションを装着すれば、反射配置の回折データ品質が向上し、プロファイルフィッティングがやりやすくなります。温度センサーは保護⽤セラミックサンプルホルダー内の試料の真下に配置されており、信頼性が⾼く再現性のある温度測定を保証します。

キャピラリーエクステンションを使⽤すると、透過配置での測定が可能になります。試料のタイプや測定目的に応じて様々なキャピラリホルダーおよびキャピラリーを使⽤できます。

空気に⾮常に敏感な試料は、密閉されたキャピラリー内で測定できます。密閉しないタイプのキャピラリーも使用でき、この場合はガス放出物質を調査する⼿段が得られます。

※アントンパール社製XRD装置用チャンバーは、自社製装置「XRDynamic500」はもちろん、他社製のXRD装置にもOEM製品として装着が可能です。
(チャンバー購入のご依頼はアントンパール社に直接ご依頼頂けます。) （詳細を見る）

最高2300 ℃まで試料を加熱できる超高温チャンバーです。

ストリップヒーター材質によって最高温度と測定雰囲気が異なります。
タングステンヒーター: max 2300℃(真空)
白金ヒーター: max 1600℃(真空、空気)
タンタルヒーター: max 1500℃(真空、空気)

ヒーター上に試料を乗せて直接加熱する方式を採用しており、500℃/min以上の昇温速度で試料を加熱することもできます。

ストリップヒーターは高温域でたわまないように予め引張され、試料表面の高さを一定に保ちます。

過熱防止機構により、ハウジング温度が70℃を超えると自動的に加熱を停止します。

※アントンパール社製XRD装置用チャンバーは、自社製装置「XRDynamic500」はもちろん、他社製のXRD装置にもOEM製品として装着が可能です。
(チャンバー購入のご依頼はアントンパール社に直接ご依頼頂けます。) （詳細を見る）

-190℃～600℃で温度制御にて反射、透過、キャピラリー等の様々なサンプルホルダーを装着可能な多目的中低温チャンバーです。

液体窒素を使用して-190℃～600℃の温度制御を行うことができます。（圧縮空気のみの冷却では-20℃～600℃）

グローブボックス内でアンティチェンバーへ試料をマウントすれば、試料を大気曝露せずにチャンバー本体に装着してすぐに測定開始できます。吸湿性のある試料のin-situ XRD測定に最適です。

過熱防止機構により、ハウジング温度が70℃を超えると自動的に加 （詳細を見る）