IR硬化炉

『IR硬化炉』は、フレキソ印刷機にて塗布された基板上の配向膜、
または絶縁膜をIRヒーターを上下に搭載し、焼成・硬化処理
冷却バッファーを行う装置です。

独立した多段炉なため、各段を自由に温度設定が出来ます。

主な用途先は半導体製造装置関連、FPD製造装置関連です。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【仕様】
■温度性能：室温〜350度(ガラス表面温度)
​■温度精度：表面温度±5度以内
■方式：マイカヒーター
■ヒーター出力：AC200V/50Hz　3φ　10KVA
​■熱量：10.78mj
​■圧縮空気：0.5Mpa　50L/min

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）