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最終更新日:2024-07-12 10:06:27.0

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半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』(全自動装置) 製品カタログ

半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』

半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』 製品画像

この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。

【特長】
■最大600wphのスループット
■4つのプロセスチャンバー
■設置面積12m2未満
■高度希釈された使い切り化学物質
■硫酸や過酸化物は必要なし


※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

取扱会社 半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』(全自動装置) 製品カタログ

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【取扱製品】 ■BATCHSPRAY Clean Autoload ■BATCHSPRAY Acid Autoload ■BATCHSPRAY Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload ■BATCHSPRAY Solvent ■BATCHSPRAY Acid

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