Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社 半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
- 最終更新日：2024-07-12 10:03:08.0
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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】全自動装置
この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。
【特長】
■最大600wphのスループット
■4つのプロセスチャンバー
■設置面積12m2未満
■高度希釈された使い切り化学物質
■硫酸や過酸化物は必要なし
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
【取扱製品】
■BATCHSPRAY Clean Autoload
■BATCHSPRAY Acid Autoload
■BATCHSPRAY Solvent Autoload
■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload
■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload
■BATCHSPRAY Acid
■BATCHSPRAY Solvent
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
取扱企業半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
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Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社
【取扱製品】 ■BATCHSPRAY Clean Autoload ■BATCHSPRAY Acid Autoload ■BATCHSPRAY Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload ■BATCHSPRAY Solvent ■BATCHSPRAY Acid
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