ダブルパルス磁場源セット　ICI-DP HH250-15 データシート

高い時間的および空間的分解能で電磁パルスを安全上重要な回路に注入するよう設計

ICI-DP HH250-15 セットは、高い時間的および空間的分解能で電磁パルスを安全上重要な回路に注入するように設計されています (電磁障害注入 - EMFI)。このセットは、最小 25 ns のパルス追従時間を持つ単一パルスおよび二重パルス シーケンスを生成するために使用できます。このセットには、高電圧源 BPS 204 とプローブ ICI-DP HH250-15 が含まれています。
プローブまたは BPS の同期入力を介して、パルスを外部機能シーケンスに同期できます。
パルス電圧や極性などのパラメータは、ソフトウェアで設定できます。

新しいパルス プローブの重要な機能の 1 つは、妨害パルスを生成するために使用される拡張された電圧範囲です。最大 1000 V (妨害電力が大幅に増加) により、新しい脆弱性を見つけることができます。
2 つ目の重要な機能は、最小 25 ns 以内に 2 つの妨害パルスを放出できることです。これにより、単一の妨害イベントに対して強化されたシステムへの攻撃を成功させることができます。