一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
最終更新日:2024-08-29 17:50:33.0
【分析事例】酸化ガリウムGa2O3 イオン注入ダメージ層の評価_C0718
基本情報【分析事例】酸化ガリウムGa2O3 イオン注入ダメージ層の評価_C0718
イオン注入後のアニール条件の違いによる差異を確認
酸化ガリウムGa2O3は、SiCやGaNよりもバンドギャップが広く、優れた物性を有することから、高効率・低コストが期待できるパワーデバイス材料として注目を集めています。デバイスの開発には、特性を左右する不純物濃度や結晶性の制御が重要です。本資料では、イオン注入による結晶構造の乱れから生じるダメージ層及び表面粗さの変化を、アニール条件毎に観察した結果を示します。
【分析事例】酸化ガリウムGa2O3 イオン注入ダメージ層の評価
酸化ガリウムGa2O3は、SiCやGaNよりもバンドギャップが広く、優れた物性を有することから、高効率・低コストが期待できるパワーデバイス材料として注目を集めています。デバイスの開発には、特性を左右する不純物濃度や結晶性の制御が重要です。本資料では、イオン注入による結晶構造の乱れから生じるダメージ層及び表面粗さの変化を、アニール条件毎に観察した結果を示します。
測定法:TEM・AFM
製品分野:酸化物半導体・パワーデバイス
分析目的:形状評価・構造評価
詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。 (詳細を見る)
取扱会社 【分析事例】酸化ガリウムGa2O3 イオン注入ダメージ層の評価_C0718
受託分析サービスで、研究開発を行う皆様をサポートします! 半導体・金属・電池などのエレクトロニクス材料や、医薬品・化粧品・食品・環境などのライフサイエンス分野に幅広く対応。 SIMS・TEM・XRD・ICP-MS・GC/MS・AES・SEM・EPMA・EELSなど、さまざまな分析装置を保有し、分析ニーズに応えます。 まずはご相談下さい。 ◆事業領域◆ 1. 科学技術分野における材料に関する基礎的研究及び解析・評価。 2. 半導体、生理学生化学、バイオ関連分野及び各種先端的分野についての基礎的研究及び解析・評価。 3. 1、2号に掲げる国内外における関連分野の研究機関又は個人に対する表彰及び支援。 4. 1、2号に掲げる研究成果等の出版または出版の支援。 5. 1、2号に掲げる国内外における関連分野の調査。 6. 1、2号に掲げる国内外における関連分野に関する研修の実施及び支援または研修所の運営。 7. その他目的を達成するために必要な事業。
【分析事例】酸化ガリウムGa2O3 イオン注入ダメージ層の評価_C0718へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。