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フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価など光学的測定をサポートします。
当製品は、液体ヘリウムを連続フローさせサンプルを冷却する クライオスタットです。 フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価など光学的測定をサポート。 光導入窓の大きさはφ5～φ50mmま…
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トランスファーチューブはオリジナルの3重管式を採用！ヘリウムの消費量を抑制
『電子顕微鏡用液体ヘリウム冷却装置』は、液体ヘリウムを連続フローさせ サンプルを冷却するクライオスタットです。 電子顕微鏡は振動を嫌うため、ヘリウムのサプライ・リターンに 細いステンレス管を…
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特別な架台を必要とせずに電磁石に設置させる事が可能！最低到達温度は15K以下。
『GM冷凍機型クライオスタット』は、スイッチ一つで簡単に15K以下の 温度環境を得ることができる装置です。 磁気抵抗測定、ホール効果測定、などの測定が可能です。 テール部はオプションで非磁性…
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他材質の窓材も使用可能！光学的測定が可能な真空機器をご紹介します。
『液体窒素クライオスタット』は、フォトルミネッセンス測定や光半導体の 評価など光学的測定が可能な装置です。 液体窒素の消費量を抑えるため、トップフランジ部に、ニードルバルブを 設置し適量の液…
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ご相談に応じた「低温技術のアドバイス」や「低温機器の製作」などを承ります。
液体窒素は－196℃の液体です。大気中常温では、台所の熱湯が入った 鍋のように湯だって沸騰した状態と同じように見えます。 そうした液体窒素を冷却槽まで送り込むには、ロートのように 落とし込み…
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実験装置から産業用生産装置まで製作可能！
実験装置から産業用生産装置まで製作いたします！ また、真空紫外分光装置は光研工業（株）とタイアップし、ご要望の真空装置を数多く製作し、お使いいただいております。 □その他機能や詳細については、…
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ボンベ荷姿、数量、ガス種により臨機応変に短納期で製作致します。
ガスボンベを収納しガスを供給する供給設備です。ガスボンベを紐で結わいて固定することは危険きわまりまりません。また、所定の圧力・流量でガスを供給するためのマニホールドは必要不可欠です。
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微小流量から大流量まで高い精度で計測可能
ガス・真空・低温機器供給のR&D 川口液化ケミカル社が取扱う「スタンダード・フロート式流量計」
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スタンダード・フロート式流量計(ニードル弁付き) FD-07MV
FD-07MVのニードルバルブ仕様微流量タイプ
ガス・真空・低温機器供給のR&D 川口液化ケミカル社が取扱う「スタンダード・フロート式流量計」
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精密流量計測制御用に最適
ガス・真空・低温機器供給のR&D 川口液化ケミカル社が取扱う「精密ニードル弁付流量計」のご紹介です
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精密流量計測が可能に！
ガス・真空・低温機器供給のR&D 川口液化ケミカル社が取扱う「高精度流量計」のご紹介です
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流量比混合方式を採用
ガス・真空・低温機器供給のR＆D 川口液化ケミカル社が取扱う、流量計内臓型ガス混合装置のご紹介です
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半導体ウエハプロセス、LCDプロセス、光ファイバプロセス、一般研究用など、あらゆるプロセスに対応
コストパフォーマンスを徹底追及した、アナログマスフローコントローラ
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高圧用 スマートシリーズマスフローコントローラ SLA5850
アナログとデジタルの両方のインターフェイスを搭載
特徴的なバルブ構造により 30MPaまでの超高圧仕様にも対応可能な、マスフローコントローラ
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スルータイプのセンサーをを採用
新しい熱力学的原理センサ設計(国際特許)に基づいた、液体用マスフローコントローラ
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画期的設計 (特許)のコリオリ式質量流量センサを採用
計測が困難とされる小流量の液体分野において 比類ない高精度とゼロ安定性を提供する、液体・ガス用マスフローコントローラ
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真空製膜装置から研究実験装置まで幅広い用途に対応
ガス・真空・低温機器供給のR＆D、川口液化ケミカル社が取扱う ローコスト・マスフローコントローラのご紹介です
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300mmウエハープロセスに対応
ワイドレンジでの高精度、高速応答を実現したマスフローコントローラ
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一般工業用ガス(酸素、窒素、アルゴン)から溶接切断用の混合ガスまで幅広く使用可能
ガス・真空・低温機器供給のR＆D、川口液化ケミカル社が取扱う 一般高圧ガス用圧力調整器のご紹介です
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一般工業用ガス(水素)から溶接切断用の混合ガスまで幅広く使用可能
ガス・真空・低温機器供給のR＆D川口液化ケミカル社が取扱う 一般高圧ガス用圧力調整器のご紹介です
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ヘリウム専用 一般高圧ガス用圧力調整器 CMH-B515-CV
ヘリウムガス専用
一般工業用ガスから風船作成用まで 幅広く使用可能な、一般高圧ガス用圧力調整器
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一般高圧ガス用(酸素、窒素、アルゴン、標準ガス) 圧力調整器
一般高圧ガス(酸素、窒素、アルゴン)から標準ガスまで幅広く使用可能
ガス・真空・低温機器供給のR＆D 川口液化ケミカル社が取り扱う 一般高圧ガス用圧力調整器のご紹介です
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高純度ガス・高精度標準ガス・半導体材料ガスまで幅広く利用可能
ガス・真空・低温機器供給のR＆D、川口液化ケミカル社が取扱う 高純度ガス用圧力調整器のご紹介です
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最大流量、17L/min
FT-IR用のパージガス発生装置
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簡単な操作で、途切れることなくガスを供給
切替に電磁弁等を使用していないため 電源が無い場所でも使うことが可能な、半自動ガス切替装置
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さまざまな用途環境での使用が可能
軽量のため持ち運びが容易な小型真空ドライポンプ
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海外ボンベにも対応可能
ガス・真空・低温機器供給のR＆D、川口液化ケミカル社が取扱う 「ボンベ変換継手」のご紹介です
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