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卓上ホットプレート 2モデル <250℃仕様/350℃仕様>
コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。
ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。 特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、 温度依存性の高い材料でのプロセス開発に…
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卓上ホットプレート 2モデル <250℃仕様/350℃仕様>
コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。
ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。 特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、 温度依存性の高い材料でのプロセス開発に…
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