株式会社三若純薬研究所 ロゴ

株式会社三若純薬研究所

      • 受託生産・合成 製品画像

        受託生産・合成

        緻密なデータと豊かな創造力は、多種多彩な製品へと姿を変えます

        当社の受託システムは、お客様のご要望の数だけの製品数を、少量~中量の 商業生産をも可能にし、まさしく理想的なソリューションをご提供します。 研究によって生み出される緻密なデータと豊かな創造力は…

      • 工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』 製品画像

        工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』

        結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分かる

        『マストーバ MIS-3b』は、シリカ系スケールの除去に使用できる 工業用洗浄剤です。 結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去します。 粘度の高いジェルタイプなので、壁面等に直…

      • 工業用洗浄剤『マストーバ SC』 製品画像

        工業用洗浄剤『マストーバ SC』

        配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使用できます

        『マストーバSC』は、カルシウムやマグネシウム由来のスケール洗浄液です。 配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく 使用可能。 電子工業などで使用されています…

      • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

        工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

        揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

        『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り…

      • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

        工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

        フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能です

        『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取る…

      • 工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』 製品画像

        工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

        漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます

        『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や…

      • レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』 製品画像

        レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

        20kg缶と200kgドラムをご用意!ドライフィルムとポジレジストのレジスト剥離促進剤

        『アンラスト R500』は、対象物がドライフィルムとポジレジストの レジスト剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥…

      • レジスト剥離促進剤『アンラスト F』 製品画像

        レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

        剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易に!

        『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離…

      • フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』 製品画像

        フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

        鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです

        『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が…

      • レジスト剥離液『アンラスト No.2C』 製品画像

        レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

        水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です

        『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラ…

      • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

        レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

        浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります

        『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 …

      • レジスト剥離液『アンラスト R510』 製品画像

        レジスト剥離液『アンラスト R510』

        剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています

        『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。…

      • フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』 製品画像

        フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

        浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!

        『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法…

      • レジスト剥離液『アンラスト M6』 製品画像

        レジスト剥離液『アンラスト M6』

        ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます

        『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプ…

      • レジスト剥離液『アンラスト M10』 製品画像

        レジスト剥離液『アンラスト M10』

        浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を防止!

        『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材…

      1〜15 件 / 全 32 件
      表示件数
      15件

      三若純薬研究所へのお問い合わせ

      お問い合わせ内容をご記入ください。

      至急度必須
      添付資料
      お問い合わせ内容 必須

      あと文字入力できます。

      【ご利用上の注意】
      お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

      はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

      イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

      ※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

      株式会社三若純薬研究所