NTDシリコン（中性子照射シリコン）は、面内の抵抗率の均一性に優れ、電力用サイリスタ（シリコン制御整流器）として使用され半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用されております。
現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存のメモリーやDSPなどのICのみならず、MEMSやオプトセンサ分野にも幅広く使用されております。
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基本情報FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン
【特徴】
○NTDシリコン（中性子照射シリコン）
○抵抗率の均一性に優れている
○電力用サイリスタ（シリコン制御整流器）として使用されている
○半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用可能
【仕様】
○直径：50mm, 75mm, 100mm, 125mm, 150mm, 200mm
○結晶方位：＜100＞or＜111＞
○伝導型（ドーパント）：N(Phosphorus)
○抵抗率：30-500,600 オーム 程度
○抵抗率公差：+/-10％ 程度
○面内抵抗率分布：< 3－8% 程度
○キャリアライフタイム：> 200µsec
○酸素濃度：< 2.0 × 10^16 atoms/cm3
○炭素濃度：< 2.0 × 10^16 atoms/cm3
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| 用途／実績例 | 【アプリケーション】 ○High Power Electronics ○Automotive Consumer ○IGBT Inverters>1kW ○Smart Power ○Low Power Thyristors ●詳しくはお問い合わせください。 |
カタログFZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン
取扱企業FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン
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【主な取扱商品】 テスト・モニター用ベアウェーハ(高精度・パーティクルチェック用・COP対策品）、コインロールウェーハ、SOI、拡散ウェーハ、ＳｉＧｅ、GaAs、Ｇｅ，サファイア、石英、等。 各種加工｛成膜・グラインダー(50μm以下も可能）ダイシング・サイズダウン・パターニング・Si再生研磨加工・洗浄加工}も対応可能です。 【CZウェーハ】 ■直径は1インチ〜450mmに対応可能 ■成膜加工可能 ■テストパターン付ウェーハ(4インチ〜12インチ）も対応 ■レチクルご支給によるテストパターニング受託も対応 【FZウェーハ】 直径30mmから8インチ、0.1 ohmから10k ohm cmを超えるような高抵抗シリコンウェーハを取り扱っております。製法はノンドープ、ガスドープ、中性子照射品などがあり、高ライフタイム、低酸素・低炭素濃度が特徴です。 【用途例】 □各種試作研究開発 □半導体製造装置評価 □太陽電池ウエハ… シリコン単結晶/多結晶/合成石英の各種加工品も取り扱っております。 化合物半導体や各種電子材料も取り扱っております。
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