テルモセラ・ジャパン株式会社 □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 最終更新日：2024-10-12 16:07:37.0
- 印刷用ページ
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・電子ビーム蒸着
・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4
・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能
【スモールフットプリント・省スペース】
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm
【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
基本情報□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
【主仕様】
・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー
*ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）
・最大基板サイズ：Φ8inch
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc)
・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源
・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２
・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構
| 価格情報 | 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | MiniLab-060 |
| 用途／実績例 | 大学・企業研究室での各種基礎実験用途 ・光学薄膜 ・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜 他 |
カタログ□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
取扱企業□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
-
-
【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
