液化窒素の冷熱を利用して、 製薬合成等の化学合成環境を低温に保持するシステムです。その最低温度は、－120℃まで対応可能です。
液体窒素の冷熱（-１９６℃）を利用し、低温環境を実現します。
主に、原薬・中間体の低温合成プロセスで使用されます。
冷熱を利用する方法として、大きく分類すると、「間接冷却式」と「直接冷却式」の２種類がございます。
低温合成、低温反応、反応熱除去、暴走反応防止などにお使いいただいています。
プラントスケールからラボスケールまでお客様のニーズに合わせて幅広く対応します。
納入実績国内No.1
数多くの製薬メーカー殿や化学メーカー殿に納入実績あり
GMP対応も行っております。
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基本情報低温反応制御システム 冷やせる温度域：常温～－120℃
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カタログ低温反応制御システム 冷やせる温度域：常温～－120℃
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