エムエス機器株式会社 プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』
- 最終更新日：2022-05-18 14:59:21.0
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音・振動も防止！
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で
冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、
ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。
温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、
1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。
【特長】
■消費電力を最大93％削減
■冷却水使用量を最大60％削減
■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計
■騒音・振動を低減
■19インチラックに収まるサイズで省スペース
基本情報プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』
【基本仕様】
温度範囲：－10℃～80℃
冷却能力：1340W＠20℃
加熱能力：2000W＠25℃
タンク：5.7L
接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー
外寸法：L483×W610×H221(mm)
※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 世界中のFABで、フロン対策、温暖化（省エネ）対策、老朽化対策、プロセス改善の用途で広くご採用いただいております。 各社プラズマエッチング装置に対応した通信インターフェイスを装備しております。各種接続事例をご用意しておりますのでお問い合せ下さい。 |
カタログプラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』
取扱企業プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』
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科学機器の輸入・国内販売及びアフターサービス業務。
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