光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。
真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。
ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、
『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、
幅広い用途で利用されています。
ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。
位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。
■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
基本情報真空対応5nmフィードバックステージシステム
■ステージ
最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して）
ストローク：20mm～50mm
最大移動速度：2mm/sec
対応真空度：10^-4 Pa
■コントローラ
制御軸数：2
最小指令単位：5nm
最大動作速度設定値：30mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます）
制御インターフェース：ジョグコントローラ、緊急停止入力、GP-IB、USB、Ethernet、汎用I/O
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野 半導体分野 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| FS-1050SPX(V) | 5nm分解能（内蔵スケール読み取り値）、50mmストロークの真空対応ステージ |
| FS-1040SPX(V) | 5nm分解能（内蔵スケール読み取り値）、40mmストロークの真空対応ステージ |
| FS-1020SPX(V) | 5nm分解能（内蔵スケール読み取り値）、20mmストロークの真空対応ステージ |
| FC-611 | 5nm分解能ステージ用のコントローラ |
カタログ真空対応5nmフィードバックステージシステム
取扱企業真空対応5nmフィードバックステージシステム
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■光学基本機器製品 ベース、ホルダー、ステージ他 ■光学素子・薄膜製品 ミラー、ビームスプリッター、フィルター、レンズ、プリズム、ポラライザー、レーザ結晶、非線形結晶、基板、他 ■自動応用製品 自動位置・姿勢決め装置、光計測器・制御装置、計測・制御ソフトウェア ■レーザシプロセッシングしシステム レーザ加工機（集光光学系）、レーザ加工機（すきゃにん光学系）、LED照明装置、レーザダイオード駆動電源 ■医療・バイオ関連製品 光ピンセット・IR-LEGO、顕微鏡用自動ステージ、コアユニット顕微鏡 ■計測・検査・評価 変異センサーユニット、オートフォーカスシステム、ズームマイクロスコープ
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