真空対応5nmフィードバックステージシステム　カタログ

5nmフィードバックステージと組み合わせて5nm分解能位置決め装置として使用できます。
ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。

外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。
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■高分解能、再現性
コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、
高分解能で再現性に優れています。

■長ストローク
ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。
これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。

■制御
コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、
コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。
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位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。

20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。 （詳細を見る）

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。
真空チャンバーにそのまま導入可能です。

自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。

40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。 （詳細を見る）

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。
真空チャンバーにそのまま導入可能です。

自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。

50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。 （詳細を見る）

シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。
フィードバックステージ ・ フィードバックステージコントローラ及びケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。

位置決めの事なら何でもご相談ください。

■大気用システム特徴・説明
リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されており、そのノウハウを元にお客様のニーズに応えます。

■真空対応システム特徴・説明
創業以来特注対応にて得た真空対応に対するノウハウを元に真空用途で高分解能及び高精度な再現性を御提供致します。

詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。
真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。

ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、
『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、
幅広い用途で利用されています。
ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。

位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。

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情報通信・半導体・バイオなどさまざまな分野で使用されているステージ。「選定時に知っておきたい Q&A」は、精密な位置決めステージを検討している方や現在使用しており、より精密な動作が必要な方が位置決めステージを選定するときに必要な情報を、まとめてQ&A形式で解説しております。

【Q&A掲載例】
■ステージとストロークのサイズはどのくらい？
■簡単に通信する方法は？シーケンサとの接続は可能か？
■オープンステージとフィードバックステージの違いは？
■位置決め時間はどのくらいか？
■どのようなところで使用されているか？…

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい  （詳細を見る）