フォトプレシジョン株式会社 『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介
- 最終更新日：2020-11-12 17:38:16.0
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アスペクト比1：5の加工実績！幅広い分野で使用できます！
当社では、パターン線幅と膜の厚さ（＝高さ）の縦横比が高い
『高アスペクト比レジスト』による加工が可能です。
アスペクト比1：5の加工実績がございます。
当技術により、レジストパターンは単なる防御膜としてだけではなく、
微細な立体構造そのものとなり、使用用途も広がりました。
【特長】
■アスペクト比1：5の加工実績
■幅広い使用用途
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介
【用途】
■流路
■スタンパー
■セル隔壁 など
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介
取扱企業『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介
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高度な技術と豊富な経験に基づいたフォトエッチングの一貫加工。 独自の受注生産システムにより多種多様なニーズにお応え致しております。
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