株式会社第一機電 『ホットプレス装置』

圧力10000kNクラス対応!抵抗加熱または誘導加熱方式のホットプレス装置

当社では、ターゲット材、セラミックス材、磁性材、電子材料等の
各種焼結体作製用の『ホットプレス装置』を取り扱っています。

プレス圧力10~10000kNクラスまで可能。
加熱方式は、抵抗加熱または高周波誘導加熱です。

【特長】
■プレス圧力10~10000kNクラスまで可能
■真空雰囲気、不活性雰囲気、大気雰囲気
■抵抗加熱、誘導加熱

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報『ホットプレス装置』

【仕様】
■加熱方式:抵抗加熱または高周波誘導加熱
■加熱温度:最高2500℃
■プレス圧カ:10~10000kN
■均熱範囲:±10℃
■ダイス:カーボングラファイト
■炉内雰囲気:真空又は不活性ガス雰囲気又は大気雰囲気
■真空排気装置:油回転ポンプ, メカニカルブースターポンプ、油拡散ポンプ
■到達真空度:5.0×10(-3) Pa以下(空炉、常温)
■制御盤:タッチパネル、シーケンサー制御(加熱、雰囲気、圧力)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログ『ホットプレス装置』

取扱企業『ホットプレス装置』

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株式会社第一機電

■3000℃域の高温加熱装置の設計・製造・販売 ■SPS焼結装置及びホットスタンピング装置などの開発・製造・販売 ■単結晶育成装置の設計・製造・販売 ■SiC単結晶製造装置の設計・製造・販売 ■加熱試験機を複数所有しており、随時受託試験を承ります。

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