テルモセラ・ジャパン株式会社 □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, アニールなどの幅広い目的に対応。
・最大基板サイズ:Φ10inch
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源
・有機蒸着源 x 最大4源
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)
・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング

*プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能

基本情報□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

【主仕様】
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可)
・真空排気:真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源)
・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8)
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源
・プロセス制御:手動、又は自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4
・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ 
・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa 
・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構

価格情報 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。
納期 お問い合わせください
※本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。
型番・ブランド名 MiniLab-080
用途/実績例 大学・企業研究室での各種基礎実験用途
・光学薄膜
・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜

カタログ□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

取扱企業□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

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テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

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