原子層蒸着(ALD)用バルブ 超高純度用バルブ 原子層プロセス用

スウェージロック社は、ALDバルブ技術で世界をリードする企業のひとつとして、
半導体デバイス製造アプリケーション向けのソリューションをお届けします。

【特長】
○非常に優れたサイクル・ライフを実現する独自のデザイン
○高速の開閉機能
○高温下でも安定した流量を実現
○シール性能に優れ、膨潤やコンタミネーションへの耐性にも優れたシート

常識を覆すパフォーマンス「ALD 7 」
半導体メーカーのデバイスの歩留まり向上に欠かせない一貫性と耐久性のニーズに対応すべく、超高純度用ダイヤフラム・バルブ「ALD 7」 を製品ラインアップに追加しました。 （詳細を見る）

Swagelok 原子層蒸着(ALD)用バルブは、高速開閉と再現性に高い作動機能を有し、非常に優れたサイクル・ライフを実現します。さらなる微細化・高度化へのニーズに対応すべく、大流量・高温用途向けの「ALD 20」を製品ラインアップに追加しました。ALD（原子層蒸着）用途での性能を最適にするため、 アクチュエーターやインジケーター、ソレノイドなど各種オプションも取り揃えています。

【特長】
非常に優れたサイクル・ライフを実現
高速の開閉機能 （オープン／クローズに要する時間は5ミリ秒未満）
高温下でも安定した流量と再現性を実現
膨潤とコンタミネーションへの耐性を高め、シール性能の優れたシート
流路から障害物を一掃し、たまり部分を最小限に抑えるボディ・デザイン

＜3つの課題に 超高純度用 ALD20バルブ＞
1. 大流量：既存ALDバルブのほぼ3倍にあたる最大1.7Cvの流量係数を実現（当社比）
2. 高温：アクチュエーター部分を含め、バルブ全体をガス・ボックスに入れて使用することが可能
3. 高性能：耐食性に優れているため、腐食性の高い流体も使用可能 （詳細を見る）

ALD（原子層蒸着）プロセスの生産性を高めるには、バルブの熱安定性や流量により高い性能が求められます。

スウェージロックの「原子層蒸着（ALD）用バルブ」は、長寿命を実現し、高速かつ再現性に優れた性能を発揮。より高い熱安定性を求める用途や大流量によるプロセス効率化の向上に寄与する製品も提供。腐食性の高い流体での使用にも優れています。

※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。 （詳細を見る）

超高純度用ダイヤフラム・バルブ「ALD7」は、
半導体製造の原子層蒸着(ALD)に必要なプリカーサーなど
超高純度の流体を、高精度で安定供給できるバルブです。

製品ごとの個体差を減らしたことで、
流量、アクチュエーターの速度、熱安定性などの各種性能に一貫性があり、
バルブ間・プリカーサーの供給間・チャンバー間の
すべてにおいて高いパフォーマンスを発揮します。

【特長】
■コンパクトで高性能。省メンテナンスも実現
■数百万サイクルにわたり、プリカーサーの正確な供給が可能
■高速作動を実現。レスポンスタイムは最速5ms
■アクチュエーターは150℃、バルブ本体は200℃の優れた耐熱性
■ボディに当社独自の「316L VIM-VARステンレス鋼」を採用。高耐食を実現

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 （詳細を見る）