プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801 エムエス機器

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音・振動も防止！

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で
冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、
ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。

温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、
1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。

【特長】
■消費電力を最大93％削減
■冷却水使用量を最大60％削減
■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計
■騒音・振動を低減
■19インチラックに収まるサイズで省スペース

関連リンク - https://www.technosaurus.co.jp/products/thermorack…

基本情報プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

【基本仕様】
温度範囲：－10℃～80℃
冷却能力：Thermorack1201 ： 1340W＠20℃
ThermoRack1801 ： <High Flow>1600W@20℃
<Medium Flow> 1800W@20℃
　　　　　　　　　　　　　　 <Low Flow>2000W@20℃
加熱能力：Thermorack1201 ： 2000W＠20℃
ThermoRack1801 ： <High Flow>3000W@20℃
<Medium Flow> 3200W@20℃
　　　　　　　　　　　　　　 <Low Flow>3400W@20℃
接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー
外寸法：L483×W610×H221(mm)
※詳しくはカタログをご覧下さい。

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用途／実績例	世界中のFABで、フロン対策、温暖化（省エネ）対策、老朽化対策、プロセス改善の用途で広くご採用いただいております。各社プラズマエッチング装置に対応した通信インターフェイスを装備しております。各種接続事例をご用意しておりますのでお問い合せ下さい。