大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装置
『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を
アニールする光応用加熱装置です。
UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの
光により、0.1～60msecの範囲を任意に可変可能。
焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に
お使いいただけます。
【特長】
■スペクトル
・紫外から可視・赤外領域まで幅広い波長特性
■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度)
・ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し、
大面積で一括照射、高照度(Max70J/cm2)での照射が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報光応用加熱装置『フラッシュランプアニール装置』
【その他の特長】
■深さコントロール(パルス制御)
・ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御することで、
ランプ電流、パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec)
・複数パルスの照射も可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■焼成 ■剥離 ■表面改質 ■酸化膜形成 ■結晶化 ■接着 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ光応用加熱装置『フラッシュランプアニール装置』
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