Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社 半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload
- 最終更新日:2024-07-12 09:57:22.0
- 印刷用ページ
この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。
高い精度のタンク内における化学物質の混合、エンドポイント検出(EPD)、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。さらに、SicOzoneレジストストリップを同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上するだけでなく、処理ステップを減らすこともできます。
【特長】
■最大300wphのスループット
■2つのプロセスチャンバー
■ばらつきが1%未満の均一性
■設置面積12m2未満
■タンクシステムによる化学物質の再循環
■sic/GaNでプロセス実行可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload
【取扱製品】
■BATCHSPRAY Clean Autoload
■BATCHSPRAY Acid Autoload
■BATCHSPRAY Solvent Autoload
■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload
■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload
■BATCHSPRAY Acid
■BATCHSPRAY Solvent
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload
取扱企業半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload
-
Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社
【取扱製品】 ■BATCHSPRAY Clean Autoload ■BATCHSPRAY Acid Autoload ■BATCHSPRAY Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload ■BATCHSPRAY Solvent ■BATCHSPRAY Acid
半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoloadへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。