【高周波洗浄ユニット：用途例】半導体製造工程ユーシー・ジャパン

出力が低い所でも安定した性能を維持！繊細な部品洗浄にも適しています。

半導体製造工程において「高周波洗浄ユニット」を
ご提案いたします。

スパッター装置や、CVD装置などをお使いのお客様で、冶具の再生を
メーカー等に依頼されていらっしゃる方も多いと思います。

特定のお客様では、超音波で部品にダメージを与えてしまうケースがあります。

当社の超音波は、出力が低い所でも安定した性能を維持できるので
そのような、繊細な部品洗浄にも適しています。

希少金属や、金などをより多く回収し、同時に冶具のクリーン度、
金属イオンの完全除去など様々な周波数の超音波を駆使して
洗浄品質向上をお手伝いします。

【特長】
■洗浄槽が大型になるケースが多い洗浄槽内で、均一なパワーの分布を実現
■幅広い出力調整幅で洗浄力を最適化

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報【高周波洗浄ユニット：用途例】半導体製造工程

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取扱企業【高周波洗浄ユニット：用途例】半導体製造工程

ユーシー・ジャパン株式会社

〈ユーシー事業部〉超音波接合用、超音波振動子設計開発、及び販売超音波接合用、超音波発振装置設計開発、及び販売超音波ボンダー関連装置販売半導体製造・検査装置販売超音波金属接合機販売〈リンコ事業部〉超音波プラスチック溶着機製造・販売〈アーテック事業部〉超音波粉体ふるい器製造・販売実験対応、デモ機貸出、超音波コンサルティングに至るまで、幅広いサポート体制を整えております。