CHEMFISH TOKYO株式会社 フルオロメタン CH3F 593-53-3
- 最終更新日:2024-08-13 15:08:49.0
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フルオロメタン CH3F 593-53-3
Si3N4の異方性エッチングガスとして、SiO2やSiに対する選択比が高く、3次元NAND、DRAM、Fin-FET半導体デバイス製造の前工程微細構造エッチングプロセスで注目されている
基本情報フルオロメタン CH3F 593-53-3
Si3N4の異方性エッチングガスとして、SiO2やSiに対する選択比が高く、3次元NAND、DRAM、Fin-FET半導体デバイス製造の前工程微細構造エッチングプロセスで注目されている
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | CHEMFISH |
用途/実績例 | Si3N4の異方性エッチングガスとして、SiO2やSiに対する選択比が高く、3次元NAND、DRAM、Fin-FET半導体デバイス製造の前工程微細構造エッチングプロセスで注目されている |
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