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高温動作によりゼロ点シフトを低減、CVD, Etch, ALDに!
することによりセンサ内部へのプロセス副生成物の堆積を最小限に抑えます。 これにより副生成物堆積によって生じる出力ドリフトをほぼ無くします。 150℃または160℃の動作温度で使用でき、メタルエッチングや絶縁膜CVDのような半導体製造における最も必要とされかつ環境の厳しい真空プロセスでの使用が可能です。 【特長】 ■150℃、160℃高温動作可能 ■オールlnconelのキャパシタン...
メーカー・取り扱い企業: 日本エム・ケー・エス株式会社
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150℃/200℃対応!バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。
保持し、プロセス副生成物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドCVD、ALDなど、厳しい条件の半導体製造プロセス用真空計としての用途の他、バクテリア増殖を防止する目的で蒸気を用いる、凍結乾燥装置、滅菌装置などのバイオ製薬プロセスに最適です。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本エム・ケー・エス株式会社
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