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PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。
本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御(予測制御)により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L+EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...
メーカー・取り扱い企業: クリーンメカニカル株式会社 本社
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PR当製品で快適な作業を!無菌操作やプロテオミクスの処理に好適
『LABOPAD Series』は、直感的に操作可能で、設置スペースを選ばない コンパクトサイズの薄型恒温プレートです。 「LABOPAD-C2」は0~100℃、「LABOPAD-H2」は室温+3℃~100℃までに 設定できるドライバスインキュベーター。当製品は、厚さが薄いため、 どこでも簡単に持ち運べます。 また、「LABOPAD-C2」は冷却機能が付いていますので、これまでの...
メーカー・取り扱い企業: トスク株式会社(旧十慈フィールド)
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サンプル形状を選ばず、自由に処理!バレルタイプ プラズマ処理装置
微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質が可能!溶液を使用せずに洗…
利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良環境性(クリーンな作業環境、無廃液)と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ば...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ
処理可能基板サイズ550×650mm。無廃液化・低ランニングコストを実…
プから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化,無廃液化 ○低ランニングコスト ○処理可能基板サイズ550×650mm その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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等方性プラズマを利用 微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最…
利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良環境性(クリーンな作業環境、無廃液)と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ば...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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