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金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に適した装置!
『IK-1000』は、金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に 適した装置です。 高真空雰囲気中において、ターゲット(成膜材料)を陰極、アノード(陽極) との間で真空アーク放電を発生させ、成膜材料を蒸発、イオン化し、 基材に負バイアス電圧を印加することで、プラズマ中にイオンを引き付けて 成膜を行います。 また、テストピースの試作など、研究開発用途に適した「IK-50...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターフェイス
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高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC
『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。 【特長】 ■高硬度 ■優れた耐熱性 ■優れた耐磨耗性 ■半導体特性を有する ■半導体装置部品等にも適応可能 ※詳しくはカタロ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターフェイス
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超高硬度な水素フリー(水素を含まない)DLCコーティング!
『Ta-CX』は、電磁式アークカソードを利用したダイヤモンド構造を多く含む、 超高硬度な水素フリー(水素を含まない)DLCコーティングです。 アークイオンプレーティング方式により高い密着性を有し、 独自開発のドロップレット(マイクロメートルレベルの突起物)を低減する 機構を備えることで、基材の表面と同等で平滑な表面が得られます。 切削工具や金型の寿命を著しく向上させ、特にアルミニ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターフェイス
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