バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』

PR圧縮空気を供給するだけで手軽に「窒素（N2）」を精製！もう大規模な設備…

『NSシリーズ』は、食品の加工や包装工程、レーザー加工機などに使用される窒素ガスを 圧縮空気から高純度に分離精製する窒素ガス精製ユニットです。 簡単に連結ができるモジュール設計を取り入れ、フィルタ類やレギュレータ、 絞り弁などの機器をコンパクトにシステム化が可能です。 また、精製は膜分離式のため電源が不要で、防爆雰囲気や異電圧地域でも使用でき、 電気ノイズや発熱、駆動音等にかかわる問...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社

スケール防止剤『Genesys SI』

高シリカの原水に対応するスケール防止剤！

『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられるシリカ濃度の高い水用 として使用できるスケール防止剤です。 一般的な無機のスケールにも広範囲に使用可能。 炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどにも有効です。 ...

メーカー・取り扱い企業： エイエムピー・アイオネクス株式会社

スケール防止剤『Genesys LF』

広く効果を発揮する万能型スケール防止剤！

『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられる広範囲に使用できる スケール防止剤です。 無機のスケール防止に有効。 特に、炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止します。 また、膜の洗浄や交換頻度を減少させる事が...

メーカー・取り扱い企業： エイエムピー・アイオネクス株式会社