KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

非接触型ディスペンサー dragonfly discovery

PR高い汎用性、高い粘性も問題なし ポジティブディスプレイスメント式非接…

dragonfly discoveryは、ポジティブディスプレイスメント方式とディスポーザブルシリンジの両方を採用した新しい非接触型ディスペンサーです。 汎用性の高さ、使いやすいソフトウェアで、１台で様々なアッセイ・研究に対応します。 ●ポジティブディスプレイスメント方式 ピストンが液体を押し出す方式です。粘性・表面張力など様々な溶液に対し、液体ごとのクラス設定なしで正確な分注が行えます...

メーカー・取り扱い企業： SPT Labtech Japan株式会社

粉体に表面処理！減圧プラズマ粉体表面改質装置

プラズマ処理で粉体に親水性を付与！粉体の均一な混練・混合、液中への分散…

処理粒子容量 ： 50～100cc 高周波発振器 ： 13.56MHｚ / 500W 処理ガスライン ： 2系統マスフロー制御 処理室加熱 ： ハロゲンヒーテイング機構 プラズマモード ： 対向 / RIE / PE (選択 or 切換) ※仕様のカスタマイズも受け承ります。 ※搬送機構 等が必要な場合は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

【粉体工業展 出展】粉体に表面処理！減圧プラズマ粉体表面改質装置

プラズマ処理で粉体に親水性を付与！粉体の均一な混練・混合、液中への分散…

処理粒子容量 ： 50～100cc 高周波発振器 ： 13.56MHｚ / 500W 処理ガスライン ： 2系統マスフロー制御 処理室加熱 ： ハロゲンヒーテイング機構 プラズマモード ： 対向 / RIE / PE (選択 or 切換) ※仕様のカスタマイズも受け承ります。 ※搬送機構 等が必要な場合は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

【粉体に付加価値！】真空プラズマ粉体攪拌処理装置

微粒子を均一にプラズマ表面改質し、粉体へ様々な機能を付加します！

処理粒子容量 ： 50～100cc 高周波発振器 ： 13.56MHｚ / 500W 処理ガスライン ： 2系統マスフロー制御 処理室加熱 ： ハロゲンヒーテイング機構 プラズマモード ： 対向 / RIE / PE (選択 or 切換) ※仕様のカスタマイズも受け承ります。 ※搬送機構 等が必要な場合は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研