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自動レジスト塗布現像ベーク装置『LITHOTRACシリーズ』
知識と経験を活かし、お客様のニーズに最適な仕様でご提供致します!
用途から生産用途まで、半導体製造プロセスに 関わるあらゆる分野に適応可能なレジスト塗布・現像・ベーク装置です。 自由度の高い設計になっていて、研究開発及び量産仕様に最適です。 また、塗布ユニット/現像ユニットを搭載し、2”/8”ウェーハの 簡易切換えが可能です。 【特長】 ■自由度の高い設計 ■塗布ユニット/現像ユニットを搭載 ■量産仕様に対応可能 ※詳しくはカタログ...
メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社
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低コストで高解像性を持つ製品をご提供致します!
ナノインプリント装置 です。プレスしながらUV照射を行ないます。 モールドサイズは、25mm~40mmで、UV照度は0.5mW/cm2になっています。 また、オプションにてHP機能・脱気ユニットを選択頂けます。 当製品以外にも、用途によって選んでいただけるようラインアップも 多数ご用意しております。 【特長】 ■自動モード離型機能搭載 ■低コストで高解像性 ■プレス圧...
メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社
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